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Os filmes de diamond-like carbon são filmes majoritariamente amorfos, porém com características tribológicas muito próximas às do diamante mesmo com a diferença da estrutura cristalina entre os dois; motivo ao qual é caracterizado por uma estrutura mista de carbono, podendo apresentar uma mistura das fases amorfa e cristalina. A obtenção dos filmes de DLC é evidenciada na literatura em diversas técnicas, sendo que as de maior notoriedade são PECVD (Plasma Chemical Enhanced Vapor Deposition), sputtering, deposição por feixes de íons, deposição por laser pulsado, deposição por arco catódico e eletrodeposição. A técnica de eletrodeposição se apresenta como boa alternativa porque é um processo simples quando comparado às técnicas mais utilizadas, pois não são necessários equipamentos de alto custo para promover condições de vácuo e/ou altas temperaturas. A técnica apresenta flexibilidade quanto aos eletrólitos, substratos, temperaturas e potenciais aplicados, podendo apresentar variadas condições de processo. O revestimento de DLC é produzido em uma célula eletrolítica, contendo uma solução orgânica como fonte de carbono, com aplicação de uma corrente contínua à temperatura ambiente. Para o pré-tratamento, todos os corpos de prova foram submetidos ao lixamento manual com lixas de carbeto de silício (SiC) de diferentes granulometrias, até atingir uma superfície visualmente polida e uniforme. Após o lixamento, as amostras foram lavadas com acetona e álcool. A eletrossintese foi realizada em uma célula eletroquímica contendo solução de ACN 5% em pH 2 e utilizando um eletrodo de grafite como anodo e o corpo de prova de Inconel 625 como catodo, sob os potenciais de 5V, 10V e 15V durante uma hora. Para a caracterização desta camada formada, foram utilizadas as técnicas de cronopotenciometria, espectroscopia de impedância eletroquímica e Polarização potenciodinâmica. A deposição de diamond-like carbon conferiu aos corpos de prova menor atividade eletroquímica, comparado aos corpos de prova sem tratamento. O revestimento obtido e a resistência de polarização, Rp, conferida pelo substrato revestido é influenciado pela tensão aplicada no processo de eletrodeposição. A cinética da atividade eletroquímica, estabelecida pela densidade de corrente nas curvas de polarização, é reduzida pela aplicação dos revestimentos nesta liga.